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    芯片界的重磅炸彈,1nm光刻機有突破了

    發布時間:2020-12-07    欄目行業:行業新聞    瀏覽次數:

    芯片的制作工藝級別一直都是大家非常關注的問題,從2004年的64納米工藝一直升級到現在的5納米工藝,足足用了16年時間之久,如今有消息傳出荷蘭的ASML公司已經完成1nm光刻機設計,說明1nm光刻機有突破了,并預計在2022年開始商用,這消息一出宛如一顆重磅震撼彈般撼動著整個世界。


    根據日媒11月30日消息,IMEC公司在ITF Japan 2020大會上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。根據IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Van den hove的透露,IMEC公司與ASML公司緊密合作,將推進下一代高分辨率EUV光刻技術。并且目前ASML公司已經完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計,將應用于1nm光刻機,預計2022年即可商用。

    在半導體領域有一個經典理論,即“大約每兩年,晶體管密度就會增加1倍”,業內人通常把這個定律稱之為摩爾定律。1納米工藝,曾是想都不敢想的,如今已有計劃實現,這怎能不引起全球的廣泛關注。


    荷蘭ASML公司突破1nm光刻機固然是令人振奮的,不過這也讓大家關心國內的光刻機技術了,現在已經商用的5納米的光刻機,而國內目前只能達到14納米工藝,5納米工藝預計我們國內預計還需要四、五年才能實現,也就是說,現今國產光刻機的工藝和世界先進水平的有兩代差距。


    如今,荷蘭ASML公司1nm光刻機已經完成1nm光刻機設計,留給國產光刻機的時間真的不多了,希望國內的科學家再加把勁,來個彎道超車,讓全世界都刮目相看。


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